场发射电镜是一种用于材料科学领域的仪器已广泛应用于材料科学(金属材料、非金属材料、纳米材料)、冶金、电子、半导体、食品、生命科学等科研和工程领域。
场发射电镜采用了肖特基场发射电子(SFE)源。其特点是:探针电流大,容易进行BSE、EDS、WDS、EBSD、CL等分析。电子束噪声较小,<1%。束流稳定度高,优于0.2%/h。适宜于长时间的各种准确分析。对环境、样品要求较低。使用方便、维护简单,且工作稳定。可提供高得多的探测电流来满足使用需要:能量发散于冷场发射(CFE)源类似,但发射电流却高出50多倍;而较大的虚拟源尺寸,可以将振动的敏感性大幅度降低。高亮度的肖特基场发射(SFE)源结合的GEMINI镜筒提供了用于高分辨率的小束斑尺寸,同时具有高的衬度和高的束流。
场发射电镜加速电压0.1-30kV,且在0.1kV的加速电压下仍有较高的分辨率。随着电子束能量的降低,像差也随着降低。从而在降至100V时,也有水平的分辨率,在30KV时具有高分辨率。高的电子束能量再加上电子束路径上不存在交叉,降低了电子束电子之间的静电库伦作用,避免了由此而引起的亮度降低以及显微镜的分辨率的限制。尤其是需要低电子束能量时,始终能提供电子束亮度。
电磁透镜与静电透镜的组合等效于一个三片型光学透镜组。增大了试样处的入射电子束孔径角,进而提高分辨率;透镜控制系统集成有聚焦控制功能,无论工作距离有多长、所选能量多大、二者的组合方式如何,都能随时选出合理的电子束孔径,即使分辨率极限下,也能提供出色的图像衬度。
具有较好的消像差功能,可使电镜更清晰成像。GEMINI透镜中集成有一个单级电子束扫描系统,其位于静电透镜缝隙的前方,降低了横向色差及其它扫面色差。